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Veröffentlichungen zu Park, Sin-Chong.
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Park, Hyung-Ho., Kwon, Kwang-Ho., ... Characterization and removal of silicon surface residue resulting from CHF3/C2F6 reactive ion etching
In: Journal of Applied Physics. - [S.l.], ISSN 1089-7550, Vol. 76, No. 8 (1994), p. 4596-4602
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1994