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Erscheinungsjahr:
Veröffentlichungen zu Lee, Kwang-Man.
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Kim, Jung-Hyung., Seo, Sang-Hun., ... The deposition of SiOF film with low dielectric constant in a helicon plasma source
In: Applied Physics Letters. - Woodbury, NY : Inst., ISSN 1077-3118, Vol. 68, No. 11 (1996), p. 1507-1509
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1996
SiOF films deposited by a helicon wave plasma chemical vapor deposition method has been characterized using Fourier transform infrared spectroscopy and ellipsometry. High density plasma of (approximately-greater-than)1012 cm−3 can be obtained on a substrate at low pressure (<10 mTorr) with rf... mehr
beteiligte Personen: Kim, Jung-Hyung. , Seo, Sang-Hun. , Yun, Seok-Min. , Chang, Hong-Young. , Lee, Kwang-Man. , Choi, Chi-Kyu.
Erschienen: 1996.
Serie: AIP Digital Archive [Dig. Serial]
Schlagwörter:
URL: http://dx.doi.org/10.1063/1.115681