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Erscheinungsjahr:
Veröffentlichungen zu Kwon, Kwang-Ho.
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1
Park, Hyung-Ho., Kwon, Kwang-Ho., ... Characterization and removal of silicon surface residue resulting from CHF3/C2F6 reactive ion etching
In: Journal of Applied Physics. - [S.l.], ISSN 1089-7550, Vol. 76, No. 8 (1994), p. 4596-4602
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1994
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2
Kwon, Kwang-Ho, Kang, Seung-Youl, ... Additive oxygen effects in Cl2 plasma etching of chrome films
in: Journal of materials science , ISSN 1573-4811, Vol. 18 (15. 1999), p. 1197-1200
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1999