Anmelden/Registrieren
Hilfe
Erscheinungsjahr:
 
Zurück zur geteilten Ansicht
Chi Kyu Choi

Veröffentlichungen von Chi Kyu Choi zu Choi, Chi-Kyu. ->
weitere Veröffentlichungen von Chi Kyu Choi:
Reactive extrusion of polyolefin ternary blends (1996)
ABS blends with phenoxy: morphology, thermal, mechanical and rheological properties (1994)
Reactive extrusion of PP/natural rubber blends (1995)
Morphologies and electro-optic properties of phenoxy/liquid crystal composite films (1995)
Polypropylene blends with a phenoxy (1996)
Intracranial mesenchymal chondrosarcoma: a case report and literature review (1993)
Growth of epitaxial C54 TiSi2 on Si(111) substrate by in situ annealing in ultrahigh vacuum (1992)
In situ solid phase epitaxial growth of C49-TiSi2 on Si (111)-7×7 substrate (1993)
The deposition of SiOF film with low dielectric constant in a helicon plasma source (1996)
Structural and electrical properties of ^2^8Si^+ and ^4^0Ar^+ ion implanted epitaxial ReSi"2 films grown on n-Si(100) substrates (1993)
Veröffentlichungen zu Choi, Chi-Kyu.
Zurück zur geteilten Ansicht
 Verfasser Titel Jahr absteigend sortierenaufsteigend sortieren
zeige Details
1 		Kim, Kun Ho., Lee, Jeoung Ju., ... Growth of epitaxial C54 TiSi2 on Si(111) substrate by in situ annealing in ultrahigh vacuum
In: Journal of Applied Physics. - [S.l.], ISSN 1089-7550, Vol. 71, No. 8 (1992), p. 3812-3815
Zugang: zum Volltext
ähnliche Vorschläge 		1992
zeige Details
2 		Choi, Chi Kyu., Yang, Soo Jeong., ... In situ solid phase epitaxial growth of C49-TiSi2 on Si (111)-7×7 substrate
In: Applied Physics Letters. - Woodbury, NY : Inst., ISSN 1077-3118, Vol. 63, No. 4 (1993), p. 485-487
Zugang: zum Volltext
ähnliche Vorschläge 		1993
zeige Details
3 		Kim, Jung-Hyung., Seo, Sang-Hun., ... The deposition of SiOF film with low dielectric constant in a helicon plasma source
In: Applied Physics Letters. - Woodbury, NY : Inst., ISSN 1077-3118, Vol. 68, No. 11 (1996), p. 1507-1509
Zugang: zum Volltext
ähnliche Vorschläge 		1996
zeige Details
4 		Kun Ho Kim, Sung Chul Kim, ... Structural and electrical properties of ^2^8Si^+ and ^4^0Ar^+ ion implanted epitaxial ReSi"2 films grown on n-Si(100) substrates
in: Thin Solid Films, in: Thin Solid Films . - Amsterdam : Elsevier, ISSN 0040-6090, ZDB-ID 1482896-0 Vol. 232, No. 1 (1993), p. 34-40
Zugang: zum Volltext
ähnliche Vorschläge 		1993