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Kyoung-Ik Cho

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Explicit and closed-form expressions for describing magnetic behaviors of uniaxial anisotropy materials (2000)
Characterization and removal of silicon surface residue resulting from CHF3/C2F6 reactive ion etching (1994)
Veröffentlichungen zu Cho, Kyoung-Ik.
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1
Hur, Jeen., Paek, Mun Cheol., ... Explicit and closed-form expressions for describing magnetic behaviors of uniaxial anisotropy materials
In: Applied Physics Letters. - Woodbury, NY : Inst., ISSN 1077-3118, Vol. 76, No. 4 (2000), p. 472-474
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2000
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2
Park, Hyung-Ho., Kwon, Kwang-Ho., ... Characterization and removal of silicon surface residue resulting from CHF3/C2F6 reactive ion etching
In: Journal of Applied Physics. - [S.l.], ISSN 1089-7550, Vol. 76, No. 8 (1994), p. 4596-4602
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1994