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Verfasser Titel Jahr
zeige Details Ilyas, M., Hogarth, C. A. Some electrical properties of amorphous thin films of mixed SiO and TiO
in: Journal of materials science , ISSN 1573-4803, Vol. 18 (11. 1983), p. 3377-3386
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1983
Abstract Electrical conduction in Cu-SiO/TiO-Cu thin film structures has been investigated. Prior to electroforming, the d.c. conduction showed a behaviour of the form log l c∞(Vb)1/2 where l c is the circulating current and V b is the applied voltage. At low applied voltages the a.c. conductivity obeyed the relation σAC∞f n (n=0.82 at 209 K). After electroforming, the samples showed voltage controlled negative resistance (VCNR), electron emission and voltage memory effects which can be explained in terms of a filamentary model.
Copyright: Copyright 1983 Chapman and Hall Ltd
beteiligte Personen: Ilyas, M. , Hogarth, C. A.
Format: Elektronisch
Erschienen: 1983.
Serie: Springer Online Journal Archives 1860-2000 [Dig. Serial]
Schlagwörter:
URL: http://dx.doi.org/10.1007/BF00544163

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